A máquina de litografia EUV é considerada o equipamento mais complexo e caro do mundo atual. Produzida exclusivamente pela empresa holandesa ASML, ela é a única capaz de “imprimir” os transistores minúsculos presentes em smartphones e IAs.
Como a máquina de litografia EUV produz luz ultravioleta extrema?
O processo para gerar a luz EUV (Ultravioleta Extrema) é um feito de engenharia quase impossível. Uma gota de estanho derretido cai no vácuo e é atingida por um laser de alta potência 50.000 vezes por segundo.
O impacto vaporiza o estanho em um plasma que atinge 220.000°C, gerando o comprimento de onda de 13,5 nanômetros. Essa luz é curta o suficiente para desenhar circuitos microscópicos que as tecnologias anteriores não conseguiam mais alcançar.
Qual o papel dos espelhos de alta precisão no processo?
Como a luz EUV é absorvida por quase tudo, inclusive pelo ar e lentes de vidro, a máquina utiliza espelhos especiais da Zeiss. Esses espelhos são feitos com camadas atômicas de silício e molibdênio para refletir a luz com perfeição.
Para que você compreenda o salto tecnológico desta nova era da computação, preparamos uma comparação entre as gerações de litografia:
| Tecnologia | Comprimento de Onda | Limite de Produção |
| Litografia DUV | 193 nanômetros | Chips de até 7nm (com dificuldade) |
| Litografia EUV | 13,5 nanômetros | Chips de 5nm, 3nm e inferiores |
| High-NA EUV | 13,5 nm (Maior Precisão) | Próxima geração de chips ultra potentes |
Por que a ASML possui o monopólio dessa tecnologia?
A ASML levou décadas e investiu bilhões de dólares para dominar a litografia EUV, contando com o apoio financeiro de gigantes como Intel e Samsung. Nenhuma outra empresa no mundo conseguiu replicar a precisão necessária para o sistema.
Para compreender a complexidade por trás da tecnologia que move o mundo moderno, trouxemos um conteúdo do canal Veritasium, que conta com mais de 16 milhões de inscritos. No vídeo, os especialistas explicam o funcionamento da máquina mais complexa da humanidade, responsável por salvar a Lei de Moore e produzir microchips nanoscópicos:
A complexidade é tanta que a fabricação de uma única máquina envolve milhares de fornecedores especializados. Esse monopólio tecnológico torna a máquina de litografia EUV o recurso mais estratégico na atual guerra comercial e tecnológica global.
O que muda com a nova geração de máquinas High-NA?
A nova geração, chamada High-NA EUV, permite uma abertura numérica maior, o que significa que o foco da luz é ainda mais nítido. Essas máquinas são do tamanho de um ônibus e custam mais de 350 milhões de euros cada.
Para detalhar as especificações desse marco da indústria de semicondutores, listamos os dados técnicos fundamentais:
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Precisão: Se o espelho fosse do tamanho da Terra, a maior falha seria da altura de uma carta.
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Ambiente: Operação em vácuo total para evitar a absorção da luz pelo oxigênio.
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Frequência: O laser atinge as gotas de estanho a uma velocidade de 50 kHz.
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Custo: Valor estimado entre 150 e 350 milhões de dólares por unidade.
Qual o impacto dessa tecnologia no futuro dos microchips?
Sem a litografia EUV, o avanço da computação teria estagnado, impedindo a criação de processadores mais eficientes e econômicos. Ela é a base para o desenvolvimento de inteligências artificiais complexas e dispositivos móveis ultravelozes.
Segundo as diretrizes de semicondutores do MCTI (Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação) e os padrões globais da ASML e do IEEE, a precisão nanométrica é o futuro da indústria. A tecnologia EUV garante que a humanidade continue quebrando barreiras na miniaturização da eletrônica por mais uma década.